特許
J-GLOBAL ID：200903011128776190
プラズマ処理方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-101144
公開番号（公開出願番号）：特開平6-045098
出願日： 1993年04月27日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ生成室内へマイクロ波を均一に導入し、プラズマ生成室内でのプラズマ分布を均一化する。【構成】 プラズマ生成室1のマイクロ波導入窓1bに連結する導波管2の途中に、マイクロ波の矩形TE10モードを円形TM01モードまたは円形TE01モードに変換するモード変換器5を設けると共に、前記マイクロ波導入窓1bを平凸形形状のレンズ部8bを有するマイクロ波透過物質8にて密封する。
請求項（抜粋）：
円形導波管のTM01モードまたは円形導波管のTE01モードのマイクロ波をその電界収束手段により真空容器内に導入し、プラズマを発生させ試料を処理することを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, C23C 14/34
, C23F 4/00
