特許

J-GLOBAL ID：200903011130657971

ポジ型感光性組成物及びサーマルフローパターン形成方法

発明者： 藤森 亨
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-261467
公開番号（公開出願番号）：特開2003-066626
出願日： 2001年08月30日
公開日（公表日）： 2003年03月05日
要約：

【要約】【課題】 サーマルフロー適性を有するポジ型フォトレジスト組成物を提供し、より微細なパターンを実現する。【解決手段】(a)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(b)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(a)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(b)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/40 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/40 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 571

Fターム (22件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA01 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096HA01 ,  2H096HA05 ,  2H096HA30 ,  5F046LA18