特許

J-GLOBAL ID：200903011136109240

転写による微細加工のための型およびその製造方法

発明者： 杉村 博之
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 三品 岩男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-014088
公開番号（公開出願番号）：特開平10-202741
出願日： 1997年01月28日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：

【要約】【課題】転写によって微細加工をするための型であって、離型性が良く、耐久性に優れた転写型を提供する。【解決手段】基板1の表面を転写すべき所望の凹凸パターンに加工し、この基板1の表面全体に酸化物膜5を形成する。そして、一端にフッ化炭素基を有し、他端に水酸基と化学反応する官能基を有する有機分子7を基板1表面全体に供給することにより、分子7の官能基と酸化膜5の水酸基とを化学反応させ、基板1の酸化膜5上に有機分子の皮膜9を形成する。この方法では、基板1の表面に一様にフッ化炭素皮膜を形成できる。フッ化炭素皮膜は、被転写材料のポリマーと付着しにくいため、離型性のよい転写型が得られる。

請求項（抜粋）：

表面に所望のパターンの凹凸が形成された基板と、前記基板表面を覆うように配置された酸化物膜と、前記酸化物膜上に配置された皮膜とを有し、前記皮膜は、前記酸化物膜と化学的に結合し、かつ、膜表面部にのみフッ化炭素を有することを特徴とする転写用型。

IPC (3件)：

B29C 59/04 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

B29C 59/04 C ,  H01L 21/30 541 Z ,  H01L 21/302 J