特許

J-GLOBAL ID：200903011138919045

画像処理装置及び方法及び記憶媒体

発明者： 村上 友近 ,  林 淳一 ,  蒔田 剛
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 西山 恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-298170
公開番号（公開出願番号）：特開2001-119562
出願日： 1999年10月20日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：

【要約】【課題】 画像の一部を加減算することにより電子透かし情報を埋め込む場合において、できるだけ人間の目に画質の劣化が目立ちにくい様に上記電子透かし情報を埋め込む。【解決手段】 マスクを構成する各係数を2値化し、ここで得られる2値情報の空間周波数領域上において周期的または擬似周期的なピークが発生する様な2次元マスクを発生する発生手段と、画像データを入力する第1入力手段と、付加情報を入力する第2入力手段と、前記2次元マスクの各係数と前記付加情報を構成する各ビット情報とを対応付ける手段と、前記対応付けの結果、及び前記画像データ上に前記2次元マスクを割り当てた際の位置関係に基づいて、前記画像データを加減算することにより、該画像データに前記各ビット情報を埋め込む電子透かし埋め込み手段とを有する。

請求項（抜粋）：

マスクを構成する各係数を2値化し、ここで得られる2値情報の空間周波数領域上において周期的または擬似周期的なピークが発生する様な2次元マスクを発生する発生手段と、画像データを入力する第1入力手段と、付加情報を入力する第2入力手段と、前記2次元マスクの各係数と前記付加情報を構成する各ビット情報とを対応付ける手段と、前記対応付けの結果、及び前記画像データ上に前記2次元マスクを割り当てた際の位置関係に基づいて、前記画像データを加減算することにより、該画像データに前記各ビット情報を埋め込む電子透かし埋め込み手段とを有することを特徴とする画像処理装置。

IPC (4件)：

H04N 1/387 ,  G06F 12/14 320 ,  G06T 1/00 ,  H04N 5/91

FI (4件)：

H04N 1/387 ,  G06F 12/14 320 E ,  G06F 15/66 B ,  H04N 5/91 P

Fターム (23件)：

5B017AA06 ,  5B017BA00 ,  5B017CA16 ,  5B057BA02 ,  5B057CA01 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CB01 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CE08 ,  5B057CE16 ,  5B057CG05 ,  5B057CG07 ,  5C053FA13 ,  5C053GB40 ,  5C053JA21 ,  5C053KA04 ,  5C053KA24 ,  5C053LA11 ,  5C053LA15 ,  5C076AA14 ,  5C076BA06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 電子透かし画像処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-080815   出願人：株式会社日立製作所
• 画像処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-232460   出願人：株式会社東芝
• 画像処理装置及び画像処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-313445   出願人：キヤノン株式会社
• 電子透かし情報の埋め込み方法および抽出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-153672   出願人：株式会社日立製作所