特許

J-GLOBAL ID：200903011145162626

アディティブ法用メッキレジスト

発明者： 西川 嘉保
出願人/特許権者： イビデン株式会社
代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-066392
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275833
出願日： 1992年03月24日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：

【要約】【目的】 所定の密着性を有するパターンを形成した場合の解像力を高め、ファインパターン化に対応できるアディティブ法用メッキレジストを提供する。【構成】 アディティブ法によるプリント配線板の製造において使用される感光性メッキレジストである。メッキレジスト2は絶縁基板上に形成された接着剤層1上に積層形成され、かつ染料を含有しない第1の感光性メッキレジスト層2aと、第1の感光性メッキレジスト層2a上に積層され、かつ染料を含有する第2の感光性メッキレジスト層2bとからなる。

請求項（抜粋）：

アディティブ法によるプリント配線板の製造において使用される感光性メッキレジストであって、絶縁基板上に形成された接着剤層上に積層され、かつ染料を含有しない第1の感光性メッキレジスト層と、第1の感光性メッキレジスト層上に積層され、かつ染料を含有する第2の感光性メッキレジスト層とからなることを特徴とするアディティブ法用メッキレジスト。

IPC (3件)：

H05K 3/18 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/095

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-193446
  
• 特開昭62-155590
  
• 特開昭58-091269