特許
J-GLOBAL ID：200903011157091899
ジメチルベンゼンジカルボキシレートの水素添加による対応するジメチルシクロヘキサンジカルボキシレートの低圧製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-501972
公開番号（公開出願番号）：特表平8-511775
出願日： 1994年06月03日
公開日（公表日）： 1996年12月10日
要約：
【要約】パラジウム及びニッケル、白金、ルテニウムまたはそれらの混合物から選ばれた第2のVIII族金属がアルミナ担体上に付着された、独特な組み合わせの特性を有する、一種の担持触媒の存在下において、対応するジメチルベンゼンジカルボキシレートエステルを水素添加することによる、ジメチルシクロヘキサンジカルボキシレートの製造方法が開示される。このような触媒を使用することによって、従来より著るしく低い操作圧力で方法を実施できる。
請求項（抜粋）：
(1)パラジウムが触媒の0.1〜5.0重量%を構成し;(2)パラジウム分散率が少なくとも15%であり;(3)パラジウムの少なくとも90重量%がアルミナ上、アルミナの表面から200ミクロン未満の深さに位置し;(4)ニッケル、白金、ルテニウムまたはそれらの混合物から選ばれた第2のVIII族金属が触媒の0.001〜1重量%を構成し;且つ(5)アルミナの結晶相がα,θ,δ,γ,ηまたはそれらの混合物であるパラジウム及びニッケル、白金、ルテニウムまたはそれらの混合物から選ばれた第2のVIII族金属がアルミナ担体上に付着された担持触媒の存在下、温度140〜400°C及び圧力10〜200バール(絶対)(1,000〜20,000kPa)においてジメチルベンゼンジカルボキシレートを水素と接触させることを含んでなる、ジメチルシクロヘキサンジカルボキシレートの製造方法。
IPC (5件)：
C07C 69/75
, B01J 23/44
, B01J 23/46 301
, B01J 23/89
, C07C 67/303
C07C 69/75 Z
, B01J 23/44 Z
, B01J 23/46 301 Z
, B01J 23/89 Z
, C07C 67/303
