特許

J-GLOBAL ID：200903011168527230

ガスハイドレートの製造装置および製造法

発明者： 永森 茂 ,  小野 純二 ,  永田 健一
出願人/特許権者： 三井造船株式会社
代理人 (1件)： 川北 武長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-120399
公開番号（公開出願番号）：特開2000-309785
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【課題】 水と天然ガスのようなメタンを主成分とするガスからメタンハイドレートを工業的に連続して製造することができる装置および製法を提供することにある。【解決手段】 冷却手段を有する筒状容器と、該筒状容器内にメタンを主成分とするガスを原料兼駆動媒体として、水または不凍液を噴射するエジェクターと、前記筒状容器内で水とメタンとの反応によって生成したメタンハイドレートを外部へ排出する手段とを有するガスハイドレートの製造装置。【効果】 メタンを主成分とするガスと水または不凍液とを連続的に反応させ、メタンハイドレートを工業的に製造することができる。

請求項（抜粋）：

冷却手段を有する筒状容器と、該筒状容器内にメタンを主成分とするガスを原料兼駆動媒体として、水または不凍液を噴射するエジェクターと、前記筒状容器内で水とメタンとの反応によって生成したメタンハイドレートを外部へ排出する手段とを有するガスハイドレートの製造装置。