特許

J-GLOBAL ID：200903011168949534

高周波放電プラズマ源装置

発明者： 青井 辰史 ,  加藤 光雄 ,  鶴崎 一也 ,  田口 俊夫 ,  梶西 邦幸
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 坂間 暁 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-052375
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250292
出願日： 1995年03月13日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】【目的】 プラズマと外周電極の電位差によりプラズマから引出されたイオンが外周電極表面をスパッタリングし、これにより飛散した粒子による放電容器内の汚染を抑制する。【構成】 高周波電源4の接地側と外周電極2の間に設けられたコンデンサ10と、同コンデンサ10と外周電極2の間にチョークコイル11を介してそのプラス側が接続されマイナス側が接地された直流電源12を備えたことによって、直流電源12より外周電極2に正電圧を印加することにより、高周波放電電極3と外周電極2の間に発生したプラズマ6の電位を増加させ、プラズマ6と外周電極2間の電位差を低下させることができるため、外周電極2のスパッタリング量の低減が可能となり、スパッタリングによる放電容器1内の汚染を抑制することが可能となる。

請求項（抜粋）：

中央部に配設された高周波放電電極と、これを取囲むように配設された外周電極との間にプラズマを生成する高周波放電プラズマ源装置において、高周波電源の接地側と上記外周電極の間に接続されたコンデンサ、および同コンデンサにチョークコイルを介してそのプラス側が接続されマイナス側が接地された直流電源を備えたことを特徴とする高周波放電プラズマ源装置。