特許
J-GLOBAL ID：200903011171374984
光ディスク原盤製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-089007
公開番号（公開出願番号）：特開平6-302015
出願日： 1993年04月16日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：
【要約】【目的】光ディスクのマスタリングプロセスに於いて、形成ピット、溝の幅を光学系の大幅な変更を行うこと無く細くして、高密度化を図る。【構成】ガラス基板1上に、スピンコート法によりポジ型レジスト2を塗布し、この上に水溶性の拡散防止膜3と光退色性膜4を設ける。そして、マスターライターで露光し、集束ビーム5により露光が行われるがマスターライター光学系には超解像用マスクを平行ビーム中に設置してメインビームを細くするようにする。露光終了後に水洗により拡散防止膜3、光退色性膜膜4を除去し、更に現像器により露光部の現像がなされ、ビームの照射された部分がピットとして形成される。
請求項（抜粋）：
光源から出射されたレーザー光をコリメータレンズ、対物レンズを通して集光させ、再生専用のROM型光ディスク或いは記録可能な光ディスクの微細なピットおよびトラッキング用の溝を形成し、原盤を作成する光ディスク原盤露光装置と、前記原盤に電極用ニッケル膜の成膜、電鋳、剥離、形状加工、研磨を行いスタンパを作成するスタンパ作成装置とを有する光ディスク原盤製造装置において、前記光ディスク原盤露光装置が、露光用レーザー光路のコリメーターレンズを通過後の平行ビーム区間に超解像マスクを設置して対物レンズにより集光させメインビームの微小化をはかりこのビームを使用してレジスト膜を露光する機能を有することを特徴とする光ディスク原盤製造装置。
引用特許：
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