特許
J-GLOBAL ID：200903011171668252
ネガ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-231343
公開番号（公開出願番号）：特開平11-072917
出願日： 1997年08月27日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 ArFエキシマレーザ光等の220nm以下の波長を光源に用いたリソグラフィー用の、前記波長に対する高い透明性と、エッチング耐性を兼ね備えたネガ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 少なくとも、一般式(1)で表される繰り返し単位を含有する重量平均分子量1000〜500000の重合体、架橋剤として一般式(2)で表される化合物、及び露光により酸を発生する光酸発生剤を含有するネガ型フォトレジスト組成物。【化1】(R1は水素原子、メチル基、R2は橋かけ環式炭化水素基を有する炭素数7〜18のアルキレン基。Xは式(3)の基、水素原子、炭素数1〜6の炭化水素基、炭素数1〜3のアルコキシ基、又は水酸基を表し、a1〜a3は1又は2、b1〜b3は0又は1を表すが、各a+b=2である。R8は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基を表す。)【化2】
請求項（抜粋）：
少なくとも、一般式(1)【化1】(一般式(1)において、R1は、水素原子あるいはメチル基、R2は橋かけ環式炭化水素基を有する炭素数7〜18のアルキレン基を表す。)で表される繰り返し単位を含有する重量平均分子量1000〜500000の重合体、架橋剤として一般式(2)【化2】{一般式(2)において、Xは一般式(3)【化3】で表される基もしくは水素原子、炭素数1〜6の炭化水素基、炭素数1〜3のアルコキシ基、又は水酸基を表し、a1,a2,a3は1又は2を、b1,b2,b3は0又は1を表すが、a1+b1=2,a2+b2=2,a3+b3=2である。R8は水素原子もしくは炭素数1〜6のアルキル基を表す。}で表される化合物、及び露光により酸を発生する光酸発生剤を含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/038 601
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/027
G03F 7/038 601
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
