特許
J-GLOBAL ID：200903011183259030
蒸着用マスクおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮園 博一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-189135
公開番号（公開出願番号）：特開2002-004034
出願日： 2000年06月23日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：
【要約】【課題】マスク取り外し時に発生する蒸着パターンの変形や欠落を防止することが可能な蒸着用マスクを提供する。【解決手段】マスク層3を含むマスク基板10と、そのマスク層3に形成され、蒸着源に向かって先細りした形状のマスク開口部5を有するマスクパターン4とを備えている。
請求項（抜粋）：
蒸着材料を基板に蒸着する際に用いる蒸着用マスクであって、マスク層を含むマスク基板と、前記マスク層に形成され、蒸着源の方向に向かって先細りした形状のマスク開口部を有するマスクパターンとを備えた、蒸着用マスク。
Fターム (2件)：
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