特許

J-GLOBAL ID：200903011197375644

重合体、レジスト組成物、および微細パターンが形成された基板の製造方法

発明者： 安田 敦 ,  岡田 春樹
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
代理人 (6件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-112546
公開番号（公開出願番号）：特開2009-299036
出願日： 2009年05月07日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：

【課題】高感度のレジスト膜を形成でき、レジスト組成物を調製する際の溶媒への溶解性に優れた重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】下記式(u)で表される構成単位を有する重合体を用いる。[化1]Rは水素原子またはメチル基を表し、Xは有機基を表す。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(u)で表される構成単位を有する、重合体。

IPC (3件)：

C08F 220/26 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C08F220/26 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (30件)：

2H125AF17P ,  2H125AF35P ,  2H125AH13 ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN39P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA04P ,  4J100BA11S ,  4J100BA22P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100BC53S ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (2件)

• (メタ)アクリル酸エステルおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-266138   出願人：三菱化学株式会社
• 特開平4-103605