特許

J-GLOBAL ID：200903011225896140

スパッタターゲット、スパッタターゲットの製造方法、合金膜の製造方法及びプローブピンの製造方法

発明者： 北爪 秀憲 ,  奈良崎 亘 ,  本山 慎一
出願人/特許権者： 株式会社アドバンテスト
代理人 (1件)： 龍華 明裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-192364
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013209
出願日： 2001年06月26日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】 組成が均一な合金膜を形成する。【解決手段】 スパッタターゲット10は、スパッタターゲットプレート12と、第1の材料により形成され、スパッタターゲットプレート12上に配置された第1スパッタ部材14と、第2の材料により形成され、スパッタターゲットプレート12上の第1スパッタ部材14が配置された位置とは異なる位置に配置された第2スパッタ部材16とを有する。スパッタターゲット10を回転させるステップと、スパッタターゲット10を回転させながら、スパッタリングするステップとにより第1の材料と第2の材料とを含む合金膜を製造する。

請求項（抜粋）：

スパッタターゲットプレートと、第1の材料により形成され、前記スパッタターゲットプレート上に配置された第1スパッタ部材と、第2の材料により形成され、前記スパッタターゲットプレート上の前記第1スパッタ部材が配置された位置とは異なる位置に配置された第2スパッタ部材とを備えることを特徴とするスパッタターゲット。

Fターム (6件)：

4K029BA21 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC15 ,  4K029DC21