特許

J-GLOBAL ID：200903011231288918

銅溶湯の脱ガス処理方法及びその装置

発明者： 岩間 久 ,  大田 昭行
出願人/特許権者： 古河電気工業株式会社
代理人 (1件)： 河野 茂夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-361896
公開番号（公開出願番号）：特開2001-181750
出願日： 1999年12月20日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
要約：

【要約】【課題】 脱酸素と脱水素の処理を同時にかつ連続して効率的に実施することができる銅溶湯の脱ガス処理方法及びその装置を提供すること。【解決手段】 固体還元剤粉末と不活性ガスとを混合した粉末混合ガス(必要なら予熱後)を溶湯中へ連続的に吹き込み拡散させることを特徴とする。装置は、銅の溶湯aの流入口61と流出口62とを有する溶湯の処理槽6と、回転する吹き出しノズル80の吐き出し部が前記処理槽6の内底部寄り位置へ臨む状態に設置された回転式ガス供給装置8と、不活性ガスと固体還元剤粉末とを混合して粉末混合ガスとし、かつ前記回転式ガス供給装置8へ連通された混合器3と、を備え、前記混合器3から前記回転式ガス供給装置8へ粉末混合ガスを所定の圧力で供給するように構成したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

固体還元剤粉末と不活性ガスとを混合した粉末混合ガスを溶湯中へ連続的に吹き込み拡散させる工程を含むことを特徴とする、銅溶湯の脱ガス処理方法。

IPC (7件)：

C22B 15/14 ,  C22B 5/10 ,  C22B 9/05 ,  C22B 9/10 102 ,  C21C 7/04 ,  C21C 7/06 ,  C21C 7/072

FI (7件)：

C22B 15/14 ,  C22B 5/10 ,  C22B 9/05 ,  C22B 9/10 102 ,  C21C 7/04 Q ,  C21C 7/06 ,  C21C 7/072 C

Fターム (11件)：

4K001AA09 ,  4K001EA03 ,  4K001EA04 ,  4K001GA05 ,  4K001GB03 ,  4K001GB05 ,  4K001HA01 ,  4K013BA07 ,  4K013CB04 ,  4K013CC04 ,  4K013EA30