特許

J-GLOBAL ID：200903011235749391

真空排気システムを備えた処理チャンバ

発明者： 香門 健二
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-341693
公開番号（公開出願番号）：特開2000-161215
出願日： 1998年12月01日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：

【要約】【課題】 真空排気システムを備えた処理チャンバであって、高真空測定子を取り外す際に、処理チャンバ内に空気等のガスが流入しないようにした処理チャンバを提供する。【解決手段】 本処理チャンバの高真空測定子18の取り付け機構52は、先端で高真空測定子に接続し、基端で処理チャンバ本体11に接続し、途中に第3開閉弁54を有する取り付け配管56を介して高真空測定子を処理チャンバ本体に取り付けている。取り付け配管は、高真空測定子と第3の開閉弁54との間の取り付け配管から分岐し、途中に第4開閉弁58を有する真空吸引管60を介してドライポンプを使った第2の真空ポンプ62に接続されている。更に、乾燥窒素ガス源と接続するガス接続ポート兼用の空気導入ポート64を基端に有し、かつ管途中に第5開閉弁66を備えたガス導入管68が、高真空測定子と第3開閉弁54との間の取り付け配管に合流している。

請求項（抜粋）：

処理チャンバ本体と、第1の真空ポンプ及び第1の真空ポンプを処理チャンバ本体に接続する真空吸引配管系を有する真空排気システムとを備え、高真空下でプロセッシングを行う処理チャンバであって、第1の開閉弁を有する取り付け配管を介して処理チャンバ本体に取り付けられた高真空測定子と、取り付け配管を真空吸引する第2の真空ポンプと、高真空測定子と第1の開閉弁との間の取り付け配管から分岐し、第2の真空ポンプの上流側に第2の開閉弁を有して第2の真空ポンプに接続する真空吸引配管と、基端に設けられたガス導入ポートと、管途中に設けられた第3の開閉弁とを備えて、高真空測定子と第1の開閉弁との間の取り付け配管に合流するガス供給管とを有することを特徴とする、真空排気システムを備えた処理チャンバ。

FI (2件)：

F04B 37/16 E ,  F04B 37/16 B

Fターム (7件)：

3H076AA21 ,  3H076BB10 ,  3H076BB45 ,  3H076CC44 ,  3H076CC92 ,  3H076CC97 ,  3H076CC98