特許
J-GLOBAL ID：200903011238708769
磁気ディスク基板の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 孝夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-154429
公開番号（公開出願番号）：特開平10-328940
出願日： 1997年05月28日
公開日（公表日）： 1998年12月15日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 所謂従来のG-G法に代わるT-G法は一段目加工として精密旋盤を用いた旋削を施し、さらにその後に二段目加工として研削加工を施すため、研削応力がばらつき、基板の平坦度の悪化を招き、磁気ディスク基板に対する厳しい要求を満足するのを困難にしている。【解決手段】 T-G法においてNC自動旋盤による精密旋削加工における研削量を20〜150μmとして基板の板厚を調整し、次いで研削加工における研削量を10μm以下とすることにより、基板平坦度の悪化を防止し、磁気ディスク基板に対する厳しい要求を満足し得る。精密旋削加工は両面均等旋削加工とすることが好ましく、研削加工は2枚以上のブランクを同時に加工し、旋削あがりのブランクの板厚分布の幅を±10μm以内とするようにする。また両面均等旋削加工はNC自動旋盤の主軸回転数を500〜10000rpmとし、ダイヤモンドバイトの移動速度を0.010〜0.500mm/revとする。
請求項（抜粋）：
アルミ磁気ディスク基板の製造工程において、Ni-Pめっき処理前のアルミニウム合金ブランクを片面20〜150μmの切削量で精密旋削加工し、次いで片面10μm以下の研削量で研削加工することを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B23P 15/00 Z
, G11B 5/84 A
