特許

J-GLOBAL ID：200903011249994810

高分子材料の酸性官能基定量方法

発明者： 岩瀬 鋭二良
出願人/特許権者： 旭化成株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-063451
公開番号（公開出願番号）：特開2004-271371
出願日： 2003年03月10日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】X線光電子分光法を用いた高分子材料の酸性官能基の定量において、検出下限が低く、反応生成物が安定であり、前処理に特殊な設備を要さず、反応が迅速に進行し、反応の選択性が高い方法を提供する。【解決手段】X線光電子分光法を用いた高分子材料の酸性官能基の定量において、該酸性官能基をRb塩型またはSr塩型に置換する前処理を施し、かつRb3dまたはSr3dを定量することによって該酸性官能基を定量する方法。【選択図】 選択図なし。

請求項（抜粋）：

X線光電子分光法を用いた高分子材料の酸性官能基の定量において、該酸性官能基をRb塩型またはSr塩型に置換する前処理を施し、かつRb3dまたはSr3dを定量することによって該酸性官能基を定量する方法。

IPC (3件)：

G01N23/227 ,  G01N1/30 ,  G01N1/34

FI (3件)：

G01N23/227 ,  G01N1/30 ,  G01N1/34

Fターム (24件)：

2G001AA01 ,  2G001BA08 ,  2G001CA03 ,  2G001GA01 ,  2G001KA01 ,  2G001KA13 ,  2G001KA20 ,  2G001LA05 ,  2G001NA03 ,  2G001NA15 ,  2G001RA01 ,  2G001RA02 ,  2G001RA03 ,  2G001RA05 ,  2G001RA10 ,  2G001RA20 ,  2G052AA18 ,  2G052AB11 ,  2G052AD32 ,  2G052FC09 ,  2G052FC11 ,  2G052FC16 ,  2G052FD00 ,  2G052GA19