投影露光設備

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山川政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-259725
公開番号（公開出願番号）：特開2003-156684
出願日： 2002年09月05日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

【要約】【課題】残留結像誤差が少ない、投影光を放出する光源と、マスクと像の間に配置された投影光学系とを備えた投影露光設備のための投影光学系を提供すること。【解決手段】投影光学系で使用されている多数のレンズをいくつかのグループに分け、それぞれのグループの中のいくつかのレンズを移動できるように修正した。その際、場合によっては物体平面に配置されたマスクをも移動できるようにする。

請求項（抜粋）：

物体平面に配置されたマスクの像を像平面に生成する、特にマイクロリソグラフィのための投影露光設備であって、投影光を放出する光源と、マスクと像の間に配置された投影光学系とを備えており、投影光学系の光路には、マスクを起点として、a)全体として正の屈折力をもつ光学コンポーネントの第1のグループ(LG1)と、b)全体として負の屈折力をもつ光学コンポーネントの第2のグループ(LG2)と、c)全体として正の屈折力をもつ光学コンポーネントの第3のグループ(LG3)と、d)全体として負の屈折力をもつ光学コンポーネントの第4のグループ(LG4)と、e)全体として正の屈折力をもつ光学コンポーネントの第5のグループ(LG5;LG5,LG6)とが配置されている形式の投影露光設備において、f)少なくとも1つの光学コンポーネントを有する少なくとも下記の3つの光学サブグループ(2,8,9,17;6,8,9,17;2,8,9,17,31;2,8,9,17,23,31;6,8,9,17,23,31;102,141,142,149;140,141,142,149;102,140,141,142,149;102,140,141,142,149,157;140,141,142,149,157,159;202,271,272,280;269,271,272,280;202,269,271,272,279;202,271,280,286,290;268,271,280,286,290;202,271,272,280,284;202,271,278,280,284;202,271,280,284;202,271,272,278;202,276,280,284;202,278,279,280)が投影光学系(1;101;201)の光学軸に沿って変位可能であり、g)第1の光学サブグループは、マスク(2;102;202)、または光学コンポーネントの第1のグループ(LG1)からの少なくとも1つの光学コンポーネント(6;140,141;268,269)を含んでおり、h)第2の光学サブグループは、光学コンポーネントの第2(LG2)または第3(LG3)のグループからの少なくとも1つの光学コンポーネント(8,9;142;271,272,276,278,279)を含んでおり、i)第3の光学サブグループは、光学コンポーネントの第3(LG3)または第4(LG4)のグループからの少なくとも1つの光学コンポーネント(17;149;278,279,280)を含んでいることを特徴とする投影露光設備。

IPC (4件)：

G02B 13/24 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 502 , H01L 21/027

FI (4件)：

G02B 13/24 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 502 , H01L 21/30 515 D

Fターム (15件)：

2H087KA21 , 2H087LA01 , 2H087NA04 , 2H087PA15 , 2H087PA18 , 2H087PB20 , 2H097BA10 , 2H097CA13 , 2H097GB00 , 2H097LA09 , 2H097LA10 , 2H097LA12 , 2H097LA20 , 5F046CB12 , 5F046CB25

引用特許：

審査官引用 (6件)

露光方法および露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-106723 出願人：株式会社ニコン
投影型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-027107 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-166504 出願人：株式会社ニコン

全件表示

前のページに戻る