特許

J-GLOBAL ID：200903011286177392

仕上げ洗浄用組成物および仕上げ洗浄方法

発明者： 白井 道雄 ,  ▲ひじ▼野 雅道 ,  唐木 和久
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-296345
公開番号（公開出願番号）：特開平8-151599
出願日： 1994年11月30日
公開日（公表日）： 1996年06月11日
要約：

【要約】【目的】 フロンを用いることなく、シミ、残渣のない手拭き洗浄をおこなう。【構成】 ヘキサメチルジシロキサンを主成分のひとつとし、ドデカメチルペンタシロキサンの含有量が50ppm未満であり、ドデカメチルペンタシロキサンよりも高沸点の化合物を実質的に含有しない組成物を用いて、手拭き洗浄する。

請求項（抜粋）：

ヘキサメチルジシロキサンを主成分のひとつとし、ドデカメチルペンタシロキサンの含有量が50ppm未満であり、かつドデカメチルペンタシロキサンよりも高沸点である化合物を実質的に含有しないことを特徴とする仕上げ洗浄用組成物。

IPC (3件)：

C11D 7/26 ZAB ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/50

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 共沸組成物または共沸様組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-171721   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 洗浄剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-047286   出願人：オリンパス光学工業株式会社