蒸発源および蒸発源を備えた真空処理室、有機化合物膜の成膜方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：北村欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-262319
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092800
出願日： 1996年09月12日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】蒸発源内で原料モノマーの不純物を取り去り、純度の高い原料モノマーを供給してパーティクルの少ない有機化合物膜を成膜する方法の提供。【解決手段】真空処理室内で有機化合物膜の二種類の原料モノマーを夫々の蒸発源より蒸発させ、基板上に蒸着重合させて有機化合物膜を成膜する方法において、原料モノマーのうち少なくとも一方の原料モノマーの蒸発を蒸発源に加熱冷却装置および排気装置を取付けた蒸発源を用いて蒸発させて有機化合物膜を成膜する。

請求項（抜粋）：

真空中で基板上に形成する有機化合物膜の二種類の原料モノマーを蒸発させるための蒸発源において、蒸発源のうち少なくとも一方の蒸発源は蒸発源に加熱冷却装置と排気装置を取付けた構成としたことを特徴する蒸発源。

IPC (3件)：

H01L 21/31 , C23C 14/12 , H01L 21/312

FI (3件)：

H01L 21/31 B , C23C 14/12 , H01L 21/312 B

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