特許
J-GLOBAL ID:200903011297443221
走査光学系
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松岡 修平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-270529
公開番号(公開出願番号):特開平9-090254
出願日: 1995年09月25日
公開日(公表日): 1997年04月04日
要約:
【要約】【課題】 入射光束の副走査方向のビーム径が小さい場合に、ビームウエストがガウス像面から離れ、デフォーカスによるビーム径の変化が大きくなり、描画性能が劣化する。【解決手段】 光源部1から発した平行なレーザー光は、第1の結像光学系であるシリンドリカルレンズ2を介して偏向器としてのポリゴンミラー3で反射、偏向され、3枚のレンズ4a,4b,4cから構成される第2の結像光学系であるfθレンズ4により走査対象面5上に主走査方向に走査するスポットを形成する。シリンドリカルレンズ2は、透過する光束の波面を副走査方向の周辺部で近軸像点を中心とする参照球面に対して遅らせるよう構成されている。
請求項(抜粋):
光源から発する光束を第1の結像光学系により偏向器の近傍で副走査方向に一旦結像させ、前記偏向器により偏向された光束を第2の結像光学系により走査対象面上に結像させる走査光学系において、前記第1、第2の結像光学系は、前記走査対象面上に結像される光束の波面を、前記走査対象面上の近軸像点を中心とした参照球面に対して副走査方向の周辺部で遅らせるよう構成されていることを特徴とする走査光学系。
IPC (3件):
G02B 26/10
, G02B 26/10 103
, G02B 13/00
FI (3件):
G02B 26/10 E
, G02B 26/10 103
, G02B 13/00
引用特許:
審査官引用 (3件)
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光走査光学系および光走査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-156734
出願人:株式会社リコー
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特開平4-118619
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特開平3-064722
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