特許
J-GLOBAL ID：200903011303619990
有機EL素子製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉井 剛
, 吉井 雅栄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-362186
公開番号（公開出願番号）：特開2005-129299
出願日： 2003年10月22日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】 マスクの汚れを人手によらず且つ処理室を大気にさらすことなく短時間で良好に除去することができる極めて実用性に秀れた有機EL素子製造装置を提供するものである。【解決手段】 仕込み室,取り出し室,前処理室,成膜室,マスクストック室,マスククリーニング室等の一つ若しくは複数種の処理室と、この処理室に基板を搬送する搬送室とから成り、基板上に有機EL材料を順次成膜して有機EL素子を製造する有機EL素子製造装置であって、有機EL材料成膜時にこの基板上に設けられるマスク1をクリーニングするクリーニング機構を前記いずれかの処理室に設け、このクリーニング機構は、マスク1を保持する保持部2と、この保持部2に保持されたマスク1と対向状態に設けられ、この保持部2に保持されたマスク1に粒状のドライアイス3を噴射するノズル体4とから成るものである。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
仕込み室,取り出し室,前処理室,成膜室,マスクストック室,マスククリーニング室等の一つ若しくは複数種の処理室と、この処理室に基板を搬送する搬送室とから成り、基板上に有機EL材料を順次成膜して有機EL素子を製造する有機EL素子製造装置であって、有機EL材料成膜時にこの基板上に設けられるマスクをクリーニングするクリーニング機構を前記いずれかの処理室に設け、このクリーニング機構は、マスクを保持する保持部と、この保持部に保持されたマスクと対向状態に設けられ、この保持部に保持されたマスクに粒状のドライアイスを噴射するノズル体とから成ることを特徴とする有機EL素子製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007FA01
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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