特許
J-GLOBAL ID：200903011312631005
クメンヒドロペルオキシドの二段階分解
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宇井 正一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-222977
公開番号（公開出願番号）：特開平6-192151
出願日： 1993年09月08日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：
【要約】【目的】 クメンヒドロペルオキシドからフェノール及びアセトンを製造するための二段階方法に関する。【構成】 第1段階においてクメンヒドロペルオキシドを分解し、そして前記第1段階の生成物を第2段階における水素化にゆだねることを含んで成る改良された2段階方法であり;残留クメンヒドロペルオキシドは、アセトン及び/又は第1段階に戻る第2段階の流出物の一部の再循環を伴って又は伴わないで、第2段階において分解され得;クメンはまた所望には再循環される。
請求項（抜粋）：
ジメチルベンジルアルコール(DMBA)を含む、クメンヒドロペルオキシド(CHP)からフェノール及びアセトンを製造するための方法であって、第1段階反応体積を有する第1段階反応領域にDMBAを含むCHPを供給し、それと反応体積1l当たり約5m当量までの水素イオンの有効量を供給する酸触媒とを接触することによって前記第1段階反応におけるCHP少なくとも95%を分解し、それによって(a)フェノール、(b)アセトン、(c)前記第1段階反応体積の内容物に基づいて約1.2重量%までの、DMBAの脱水によるαメチルスチレン(AMS)、(d)残留DMBA、(e)CHP及びDMBAの組合せによるジクミルペルオキシド(DiCup)、及び(f)残留CHPを含む第1段階反応混合物を生成し、第2段階反応領域において前記第1段階反応混合物と水素とお水素化触媒の存在下で同時に接触し、AMSをクメンに水素化し、又はその後、前記第1段階反応混合物と酸触媒とを接触し、残量CHPをフェノール及びアセトンに分解し、残量DMBAをAMSに脱水し、そしてDiCupをアセトン、フェノール及びAMSに分解し、そして前記第2段階反応領域の生成物からフェノール及びアセトンを回収することを含んで成る方法。
IPC (7件)：
C07C 39/04
, B01J 23/44
, B01J 31/02 103
, C07C 27/00 310
, C07C 37/08
, C07C 49/08
, C07B 61/00 300
