特許
J-GLOBAL ID：200903011324149691
半導体製造プロセスにおけるウエハ搬送・保管システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-055100
公開番号（公開出願番号）：特開平6-032449
出願日： 1993年02月19日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：
【要約】【目的】 各プロセス間のウエハの搬送・保管を内部を真空状態としたウエハ保管箱を積極的に活用した半導体製造プロセスにおけるウエハ搬送・保管装置を提供すること。【構成】 半導体製造プロセスにおける大気中でのプロセスと真空中でのプロセスとの間及びそれぞれの各プロセス間のウエハの移動並びに一時保管に、内部を真空状態としたウエハ保管箱8を用いると共に、該保管箱へのウエハの収納、該保管箱からのウエハの取り出し、及びウエハの搬送・保管を自動的に行う、保管箱ローディング装置1、駆動装置2、保管箱接続装置3、ゲートバルブ装置4、保管箱内容物収納取出装置5、ロボット6からなる自動収納・取出・保管手段を設けた。
請求項（抜粋）：
半導体製造プロセスにおける大気中でのプロセスと真空中でのプロセスとの間及びそれぞれの各プロセス間のウエハの移動並びに一時保管に、内部を真空状態としたウエハ保管箱を用いると共に、該保管箱へのウエハの収納、該保管箱からのウエハの取り出し、及びウエハの搬送・保管を自動的に行う自動収納・取出・搬送・保管手段を設けたことを特徴とする半導体製造プロセスにおけるウエハ搬送・保管システム。
IPC (5件)：
B65G 49/07
, B65D 81/20
, B65G 1/02
, B65G 49/00
, H01L 21/68
