特許
J-GLOBAL ID：200903011327810356
露光用マスク材料の処理方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-310966
公開番号（公開出願番号）：特開2003-114517
出願日： 2001年10月09日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：
【要約】【課題】周辺の画像に影響を受けることなく、画像、特に細線の線幅が忠実に再現される露光用マスク材料の処理方法を提供する。【解決手段】ガラス基材とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核層を有し、物理現像によりガラス基材上に厚さ1ミクロン以下の金属銀画像を形成し、該金属銀画像の最高光学濃度が1.0以上であるハロゲン化銀感光性露光用マスク材料の処理方法において、現像工程が亜硫酸塩を含有しかつ亜硫酸塩以外のハロゲン化銀溶剤を実質的に含有しない第1現像液で処理する第1現像工程と亜硫酸塩および亜硫酸塩以外のハロゲン化銀溶剤の両方を含有する第2現像液で処理する第2現像工程よりなることを特徴とする露光用マスク材料の処理方法。
請求項（抜粋）：
ガラス基材とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核層を有し、物理現像によりガラス基材上に厚さ1ミクロン以下の金属銀画像を形成し、該金属銀画像の最高光学濃度が1.0以上であるハロゲン化銀感光性露光用マスク材料の処理方法において、現像工程が亜硫酸塩を含有しかつ亜硫酸塩以外のハロゲン化銀溶剤を実質的に含有しない第1現像液で処理する第1現像工程と亜硫酸塩および亜硫酸塩以外のハロゲン化銀溶剤の両方を含有する第2現像液で処理する第2現像工程よりなることを特徴とする露光用マスク材料の処理方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G03C 8/32
, G03C 8/36 501
, H01L 21/027
G03F 1/08 L
, G03C 8/32
, G03C 8/36 501
, H01L 21/30 502 P
2H095BC08
, 2H095BC19
, 2H095BC24
