特許

J-GLOBAL ID：200903011332251691

プロ-ブ装置およびその方法

発明者： 久慈 基弘 ,  赤池 伸二 ,  吉岡 晴彦
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン山梨株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-085759
公開番号（公開出願番号）：特開平8-335612
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：

【要約】【目的】第1撮像手段によりプロ-ブカ-ドのプロ-ブ位置を座標として求め、退避可能なタ-ゲットにより第1撮像手段と第2撮像手段とを位置合わせして、第2撮像手段で基板の電極の位置を座標として求め、プロ-ブの位置に対する電極の位置を求めて、プロ-ブと電極との位置合わせを可能にしたプロ-ブ装置及びプロ-ブ方法を提供する。【構成】プロ-ブカ-ド1のプロ-ブ2の位置を第1撮像手段3の撮像情報から座標として求め、この第1撮像手段3の位置と第2撮像手段4の位置とを合致させ、第2撮像手段4でウエハ5の電極5a位置を求め、プロ-ブ2の位置に対応するウエハ5の電極5aの位置を算出し、プロ-ブ2と電極5aとの位置合わせをして、ウエハ5の検査を行う。

請求項（抜粋）：

プロ-ブが設けられたプロ-ブカ-ドを基板の対向面に配設し、上記プロ-ブを撮像する第1撮像手段および上記基板を撮像する第2撮像手段により、上記プロ-ブと上記基板の位置合わせを行うプロ-ブ装置において、上記基板とプロ-ブの間にタ-ゲットを設けて上記第1と第2撮像手段との位置合わせを行った後、上記タ-ゲットを上記位置から退避する構成にしたことを特徴とするプロ-ブ装置。

IPC (4件)：

H01L 21/66 ,  G01R 1/073 ,  G01R 31/26 ,  G01R 31/28

FI (4件)：

H01L 21/66 B ,  G01R 1/073 E ,  G01R 31/26 J ,  G01R 31/28 K