ネガ型フォトレジスト膜の現像方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-166807
公開番号（公開出願番号）：特開平5-333562
出願日： 1992年06月03日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：

【要約】【目的】特に厚膜のネガ型レジスト膜を効率的に現像することができる、改良された現像方法を提供する。【構成】ネガ型フォトレジスト膜に実質的に新鮮な現像液を、多段階にまたは連続的に接触させることからなるネガ型フォトレジスト膜の現像方法。

請求項（抜粋）：

ネガ型フォトレジスト組成物を基板上に塗布して形成されたネガ型フォトレジスト膜を現像する際に、該フォトレジスト膜に実質的に新鮮な現像液を、多段階にまたは連続的に接触させることを特徴とするネガ型フォトレジスト膜の現像方法。

IPC (3件)：

G03F 7/30 , G03F 7/038 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

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