特許

J-GLOBAL ID：200903011346160249

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 百田 淳 ,  佐藤 健一郎 ,  坂口 新治
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-006697
公開番号（公開出願番号）：特開平9-015853
出願日： 1996年01月18日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【課題】 高感度で高解像力および優れた膜厚依存性を有し、更に露光マージンも良好になる超微細加工用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することができる。【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂、特定のポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルフォン酸エステルのテトラエステル成分のパターン面積が全パターン面積の50%以上であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂および下記一般式(I)で表わされるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルフォン酸エステルを含有し、かつ、254nmの紫外線を用いて測定した高速液体クロマトグラフィーにおいて、該一般式(I)で表わされるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルフォン酸エステルのテトラエステル成分のパターン面積が全パターン面積の50%以上であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、X:【化2】R1〜R18:同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4個のアルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基、R19、R20:同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4個のアルキル基又はアルケニル基、R21:水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜4個のアルキル基又はアルケニル基、R22:水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4個のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基又はアルコキシ基、R31〜R36:同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基(ここで、R31とR32、R33とR34、又はR35とR36は互いに結合して4〜5員のシクロアルカンを形成してもよい。)を表す。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R