特許

J-GLOBAL ID：200903011347271451

基板処理装置

発明者： 綿引 真一郎 ,  池田 和人 ,  吉田 祐治 ,  油谷 幸則 ,  吉田 久志
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 油井 透 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-195631
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040639
出願日： 1997年07月22日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】【課題】 基板処理部のメンテナンスを行う場合の労力や時間を軽減することができ、かつ、装置の稼働率の低下も防止することができるようにする。【解決手段】 成膜装置は、2つの成膜部21(1),21(2)と、2対のスライド機構22(1),23(1),22(2),23(2)と、基板を搬送するための1つの搬送部24と、搬送部24を支持するための支持部25と、筐体26とを有する。成膜部21(1),21(2)は、互いに独立に構成され、かつ、床面と直交する方向に重なるように配置されている。また、成膜部21(1)は、スライド機構22(1),23(1)により床面に平行な方向にスライド可能なように支持され、成膜部21(2)は、スライド機構22(2),23(2)により床面に平行な方向にスライド可能なように支持されている。

請求項（抜粋）：

それぞれ独立に構成され、基準面と直交する方向に重なるように配置される複数の基板処理部と、これら複数の基板処理部のそれぞれを前記基準面に平行な方向に移動自在に支持する支持手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。