特許
J-GLOBAL ID：200903011366825506
熱処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-099348
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283160
出願日： 1994年04月12日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 反応管内の昇温速度を速くすることにより、熱履歴を小さくすると共に、スループットを高めることができる熱処理装置を提供すること。【構成】 反応管2の周囲に、抵抗発熱線51をサポータ52で支持した発熱体5を設け、この発熱体5の周囲に空間を介して5枚の円筒状の熱輻射板6を配設する。発熱体5にて反応管2内の温度を昇温させるときに発熱体5と熱輻射板6との間の空間、各熱輻射板6の間の空間を減圧すると、これらの空間における熱の授受は輻射により行われる。従って発熱体5より発生した熱は反応管2方向へ輻射すると同時に熱輻射板6方向へも輻射し、この輻射熱により加熱されて熱輻射板6にて発生した熱も外側の熱輻射板6方向へ輻射すると同時に反応管2方向へも輻射する。このため発熱体5から外側へ流出した熱の一部は発熱体5へ戻されるので、反応管内の温度を高速で昇温できる。
請求項（抜粋）：
反応管の周囲に発熱体を設け、この発熱体により反応管内を加熱して、反応管内の被処理体を熱処理する熱処理装置において、前記発熱体の周囲に気密な空間を介して設けられた少なくとも1枚の熱輻射板と、前記空間を減圧する減圧手段と、を備え、前記反応管内を昇温させるときには前記減圧手段により前記空間を減圧することを特徴とする熱処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/22 511
, H01L 21/205
, H01L 21/31
, H01L 21/324
