特許
J-GLOBAL ID:200903011371968960
半導体ダイオード
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-116687
公開番号(公開出願番号):特開平11-307786
出願日: 1998年04月27日
公開日(公表日): 1999年11月05日
要約:
【要約】【課題】 半導体集積回路の構造に起因する寄生バイポーラトランジスタの動作を禁止しかつ製造技術を変更する事無しに、接合ダイオードより低いVFを有する半導体ダイオードを実現する。【解決手段】 MOS型集積回路上に形成する半導体ダイオードであって、第一のMOSトランジスタのゲートとドレインを接続し、かつ抵抗素子の一方に接続し、抵抗素子の他方を第一のMOSトランジスタのバルクと接続し、かつ第一のMOSトランジスタと同極性の第二のMOSトランジスタのドレインとゲートとバルクに接続し、第一のMOSトランジスタのソースと第二のMOSトランジスタのソースとを接続してなることを特徴とする半導体ダイオード。
請求項(抜粋):
MOS型集積回路上に形成する半導体ダイオードであって、第一のMOSトランジスタのゲートとドレインを接続し、かつ抵抗素子の一方に接続し、抵抗素子の他方を第一のMOSトランジスタのバルクと接続し、かつ第一のMOSトランジスタと同極性の第二のMOSトランジスタのドレインとゲートとバルクに接続し、第一のMOSトランジスタのソースと第二のMOSトランジスタのソースとを接続してなることを特徴とする半導体ダイオード。
IPC (5件):
H01L 29/861
, H01L 21/22
, H01L 21/8234
, H01L 27/06
, H01L 29/86
FI (4件):
H01L 29/91 L
, H01L 21/22 S
, H01L 29/86 A
, H01L 27/06 102 A
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