特許
J-GLOBAL ID：200903011375198794
位置合わせ方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-079415
公開番号（公開出願番号）：特開平6-291021
出願日： 1993年04月06日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【目的】 サンプルショットの中に非線形誤差量が大きい飛びショットがある場合でも、ウエハの全面で高精度に位置合わせを行う。【構成】 ウエハWの露光ショットから選択されたサンプルショットSA1〜SA9について、ステージ座標系上での座標値を計測し、EGA演算により求めた計算上の座標値を差し引いてそれぞれ非線形誤差量を求める。飛びショットであるサンプルショットSA7の周囲の新たなサンプルショットSA71〜SA78についても座標値を計測して非線形誤差量を求める。サンプルショットSA7とサンプルショットSA71〜SA78との非線形誤差量の傾向が異なる場合には、サンプルショットSA7の計測結果は計測エラーとみなして、アライメントデータから除外する。
請求項（抜粋）：
基板上に設定された試料座標系上の配列座標に基づいて前記基板上に配列された複数の被加工領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の加工位置に対して位置合わせするに当たって、前記複数の被加工領域の内、少なくとも3つの予め選択されたサンプル領域の前記静止座標系上における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計計算することによって、前記基板上の複数の被加工領域の各々の前記静止座標系上における配列座標を算出し、該算出された複数の被加工領域の各々の配列座標に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数の被加工領域の各々を前記加工位置に対して位置合わせする方法において、前記サンプル領域のそれぞれの前記静止座標系上における座標位置を計測する第1工程と、該第1工程で計測された座標位置より、前記サンプル領域のそれぞれの前記静止座標系上での座標位置の非線形誤差量を求める第2工程と、前記複数のサンプル領域の内の前記非線形誤差量が所定の許容値を超える特異領域の周辺の前記被加工領域の前記静止座標系上における座標位置を計測する第3工程と、前記第1工程及び第3工程で計測された座標位置より、前記特異領域の周辺の前記被加工領域の非線形誤差量を求める第4工程と、を有し、前記特異領域の周辺の前記被加工領域の非線形誤差量が前記特異領域の非線形誤差量と同じ傾向の場合に、前記特異領域及び該特異領域の周辺の前記被加工領域の各々の前記静止座標系上における配列座標を、前記特異領域の前記第1工程で計測された座標位置及び前記特異領域の周辺の前記被加工領域の前記第3工程で計測された座標位置を統計計算することによって算出し、前記特異領域の周辺の前記被加工領域の非線形誤差量が前記特異領域の非線形誤差量と異なる傾向の場合に、前記特異領域について前記第1工程で計測された座標位置を除いた前記第1工程及び前記第3工程で計測された座標位置を統計計算することによって、前記被加工領域の各々の前記静止座標系上における配列座標を算出することを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
