特許
J-GLOBAL ID：200903011385197516
誘導加熱式真空溶解炉に於ける水冷回転円板式鋳型装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-041724
公開番号（公開出願番号）：特開平5-237635
出願日： 1992年02月27日
公開日（公表日）： 1993年09月17日
要約：
【要約】【目的】 誘導加熱式真空溶解炉から溶湯を短時間で冷却固化して取り出しが可能で、真空室から鋳型を取り出す必要のない鋳型装置を提供すること【構成】 真空室1内に誘導加熱式溶解炉4と、これで溶解された溶湯が注湯される鋳型とを設けた誘導加熱式真空溶解炉に於いて、真空室を介して外部へ延びると共に冷却水通路16を備えた回転軸9を設け、該回転軸の真空室内の端部に、該回転軸の冷却水通路に連通する冷却水通路18を備えた回転円板10を水平に取付け、該回転円板に、平板状の鋳型21を固定すると共に該平板状の鋳型の上に内外2重の鋳型枠23、24を設けた【効果】 迅速に溶解炉からの溶湯を冷却して鋳型を取り出すことなく製品のみを迅速に真空室から取り出すことができ、鋳型の上に鋳型枠を載せるだけで出湯の用意が完了するので、鋳型セットが簡単になり作業性が向上する
請求項（抜粋）：
真空室内に誘導加熱式溶解炉と、これで溶解された溶湯が注湯される鋳型とを設けた誘導加熱式真空溶解炉に於いて、真空室を介して外部へ延びると共に冷却水通路を備えた回転軸を設け、該回転軸の真空室内の端部に、該回転軸の冷却水通路に連通する冷却水通路を備えた回転円板を水平に取付け、該回転円板に、平板状の鋳型を固定すると共に該平板状の鋳型の上に内外2重の鋳型枠を設けたことを特徴とする誘導加熱式真空溶解炉に於ける水冷回転円板式鋳型装置。
IPC (3件)：
B22D 25/02
, B22D 7/06
, B22D 23/00
