特許
J-GLOBAL ID：200903011393486195
イオン処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-318511
公開番号（公開出願番号）：特開平5-128998
出願日： 1991年11月06日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：
【要約】【目的】 イオンビームがホルダ等に当たることによって放出される二次電子を効果的に利用して、イオンビーム照射に伴う基板の帯電現象を低減させることができると共に、ファラデーカップ内部でのパーティクルの発生を抑えて基板に対するコンタミネーションを低減させることができるようにしたイオン処理装置を提供する。【構成】 基板6を保持するホルダ4の上流側に設けられたファラデーカップ10の内壁およびホルダ4との対向面に、これらの内壁および対向面を覆うように、複数に分割された金属ライナー20を互いにかつファラデーカップ10から電気的に絶縁して設けている。各金属ライナー20は、碍子22によって着脱可能に支持されている。
請求項（抜粋）：
基板を保持するホルダに保持された基板に真空中でイオンビームを照射して当該基板を処理する装置であって、ホルダの上流側にファラデーカップを有するものにおいて、前記ファラデーカップの内壁に、同内壁を覆う金属ライナーであって、複数に分割されており、しかも互いにかつファラデーカップから電気的に絶縁されたものを、着脱可能に取り付けたことを特徴とするイオン処理装置。
IPC (4件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01J 37/04
, H01L 21/265
