特許

J-GLOBAL ID：200903011396739116

基板処理装置

発明者： 西崎 光広
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-359767
公開番号（公開出願番号）：特開2000-183024
出願日： 1998年12月17日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】 半導体や液晶基板の洗浄工程で用いる単一槽基板処理装置の処理槽や配管を十分に洗浄することができ、かつ洗浄の際の使用純水量の少ない基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板11を浸漬して基板表面の処理を行う内槽3とこの内槽3からオーバーフローした液を回収する外槽2からなるオーバーフロー型の処理槽1と、この内槽3から処理液20を一時的に溜めておく回収タンク12に処理液を回収する処理液回収管13と、前記回収タンク12から内槽3に処理液20を供給する処理液供給管21と、外槽2から内槽3に処理液20を送る循環配管8と、前記内槽3と外槽2の各々に設けたドレン配管15とを有する基板処理装置において、前記処理液供給管21、処理液回収管13、循環配管8、およびドレン配管15に対しそれぞれバルブ41から46を介して純水供給管16を接続した。

請求項（抜粋）：

基板を浸漬して基板表面の処理を行う内槽とこの内槽からオーバーフローした液を回収する外槽からなるオーバーフロー型の処理槽と、この内槽から処理液を一時的に溜めておく回収タンクに処理液を回収する処理液回収管と、前記回収タンクから内槽に処理液を供給する処理液供給管と、外槽から内槽に処理液を送る循環配管と、前記内槽と外槽の各々に設けたドレン配管とを有する基板処理装置において、前記処理液供給管、処理液回収管、循環配管およびドレン配管に対しそれぞれバルブを介して純水供給管を接続したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/306 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 648

FI (5件)：

H01L 21/306 J ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/304 648 H ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (12件)：

2H096AA25 ,  2H096CA01 ,  2H096LA30 ,  5F043DD30 ,  5F043EE24 ,  5F043EE25 ,  5F043EE29 ,  5F043EE32 ,  5F043EE33 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10 ,  5F046HA03