特許

J-GLOBAL ID：200903011397105269

炭酸泉生成方法及び装置

発明者： 岡崎 龍夫
出願人/特許権者： 岡崎 龍夫 ,  ヴィータ株式会社
代理人 (2件)： 平井 正司 ,  神津 堯子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-141377
公開番号（公開出願番号）：特開2005-006668
出願日： 2003年05月20日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：

【課題】高濃度炭酸泉を生成する。【解決手段】圧力容器1には加圧炭酸ガスが供給される。浴槽4からの温水は原水汲み上げ管5を通じて圧力容器1の中に連続的に供給され、圧力容器1の気相領域に散布され、水粒子の状態で炭酸ガスと接触して炭酸ガスを含有した炭酸泉となり、圧力容器1の底に液相となって貯留される。圧力容器1内の炭酸泉は炭酸泉吐出管7を通じて連続的に浴槽4に排出される。炭酸泉排出管406にはオリフィスなどの排出量抑制機構8が介装されており、これにより圧力容器1の底には所定水位の炭酸泉が貯留された状態が維持される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

加圧炭酸ガスを圧力容器の中に供給する炭酸ガス供給工程と、 大気圧下の原水源からの原水を温水化させながら又は温水源からの温水を連続的に圧送ポンプで圧送して前記圧力容器内に温水を供給する温水供給工程と、 該圧力容器に供給される温水を炭酸ガス領域に散布して炭酸ガスと接触させる温水散布工程と、 前記圧力容器内の底部に貯留した炭酸泉が残留した状態を保持することができるように炭酸泉の排出量を規制及び/又は抑制しながら前記圧力容器の底部から炭酸泉を排出させる炭酸泉排出工程とを有する炭酸泉生成方法。

IPC (5件)：

A61H33/02 ,  B01F1/00 ,  C02F1/50 ,  C02F1/76 ,  F24H1/00

FI (6件)：

A61H33/02 A ,  B01F1/00 B ,  C02F1/50 531E ,  C02F1/50 531M ,  C02F1/76 A ,  F24H1/00 602J

Fターム (38件)：

3L024CC15 ,  3L024GG06 ,  3L024HH21 ,  4C083AA021 ,  4C083AA022 ,  4C083AB011 ,  4C083AB012 ,  4C083AB051 ,  4C083AB052 ,  4C083CC25 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083EE10 ,  4C083EE13 ,  4C083FF04 ,  4C087AA03 ,  4C087BA06 ,  4C087CA01 ,  4C087MA17 ,  4C087MA63 ,  4C087NA10 ,  4C087ZA89 ,  4C094AA01 ,  4C094DD06 ,  4C094EE06 ,  4C094EE07 ,  4C094EE24 ,  4C094FF05 ,  4C094GG03 ,  4D050AA10 ,  4D050AB06 ,  4D050BA01 ,  4D050BB06 ,  4D050BC01 ,  4D050BD08 ,  4D050CA13 ,  4G035AA05 ,  4G035AA07