特許
J-GLOBAL ID：200903011398039804

加飾成形品及びその製造方法

発明者：
藤井 哲也

藤井 哲也 について

, 
大庭 達也

大庭 達也 について

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小木曽 浩一

小木曽 浩一 について


出願人/特許権者：
豊田合成株式会社

豊田合成株式会社 について


代理人 (1件)： 恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-361516
公開番号（公開出願番号）：特開2003-159900
出願日： 2001年11月27日
公開日（公表日）： 2003年06月03日
要約：
【要約】【課題】ホログラム加工が施された面における干渉色の視認性を向上させて、その意匠性を好適に向上させることのできる加飾成形品、及びこうした加飾成形品の製造に用いて好適な製造方法を提供する。【解決手段】このオーナメント10は、その意匠面に、何れもオーナメント10の長手方向に延びる複数のシボ溝17が形成される。それらシボ溝17は、その開口幅及び深さが不均一に形成される。これらシボ溝17の表面全体、すなわち意匠面全体には、ホログラム加工が施される。ホログラム加工としては、意匠面上にその意匠面の振幅と比べて極めて微細な振幅を有する凹凸からなるホログラム25が、意匠面に重畳するように形成される。
請求項（抜粋）：
少なくとも基材の一部にホログラム加工が施されてなる加飾成形品において、前記基材は、所定の振幅を有する凹凸からなる第1の表面状態と、その第1の表面状態とは異なる振幅を有するとともに、その第1の表面状態の少なくとも一部に重畳され、光が反射したときに反射光の干渉を生じせしめる第2の表面状態とを備えることを特徴とする加飾成形品。
IPC (5件)：
B44F 1/14 ,  B29C 33/38 ,  B29C 33/42 ,  G03H 1/18 ,  B29L 9:00
FI (5件)：
B44F 1/14 ,  B29C 33/38 ,  B29C 33/42 ,  G03H 1/18 ,  B29L 9:00
Fターム (18件)：
2K008AA00 ,  2K008GG05 ,  4F202AA21 ,  4F202AF01 ,  4F202AF07 ,  4F202AG03 ,  4F202AG05 ,  4F202AH81 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ03 ,  4F202AJ09 ,  4F202CA30 ,  4F202CB01 ,  4F202CD05 ,  4F202CD12 ,  4F202CD18 ,  4F202CD30 ,  4F202CK11
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 画像形成体
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-152109   出願人：凸版印刷株式会社
審査官引用 (1件)
  • 画像形成体
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-152109   出願人：凸版印刷株式会社

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