特許
J-GLOBAL ID：200903011400790091
レーザ加工装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中野 雅房
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-277416
公開番号（公開出願番号）：特開平7-108394
出願日： 1993年10月08日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：
【要約】【目的】 マスクの背面におけるレーザビームの反射による悪影響を防止する。【構成】 レーザ発振器(図示せず)と対物レンズ2との間に箱状の遮蔽ケース1aを配置する。遮蔽ケース1aにレーザビームαが通過できるように開口10を設け、レーザビームαの光軸Lに垂直にレーザビームαの入射側から入射マスク3、プリマスク4、加工マスク5をそれぞれ遮蔽ケース1a内に配置する。入射マスク3にはレーザビームαのビーム断面(b×b ́)とほぼ同じ大きさの入射窓8を開口する。プリマスク4には加工マスク5の加工穴7と同じ大きさかあるいはそれよりも少し大きめの開口部9を設ける。開口部9の外周には入射窓8よりも広い範囲に外周方向に向けて傾斜角を持った反射部11を設ける。
請求項（抜粋）：
加工用マスクにより整形されたレーザ光を照射することによって対象物を加工するレーザ加工装置において、レーザ発振器から発射されたレーザ光を貫通させる入射窓を備えた遮蔽ケースを前記加工用マスクからレーザ光の入射側に向って設け、前記入射窓から遮蔽ケース内に入射されたレーザ光のうちレーザ加工に必要なレーザ光を通過させるための開口部を設けたプリマスクを前記加工用マスクと前記入射窓との間に備え、前記加工用マスク及び前記プリマスクで反射されたレーザ光が前記遮蔽ケースの外部に漏れないように前記加工用マスクと前記入射窓との間の空間を前記遮蔽ケースで覆ったことを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (2件)：
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