特許
J-GLOBAL ID：200903011402519603
CVD用原料ガスの発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
志賀 正武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-002135
公開番号（公開出願番号）：特開平6-206796
出願日： 1993年01月08日
公開日（公表日）： 1994年07月26日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、原料溶液を細粒の液滴状で気化器に供給でき、供給経路の途中で目詰まりを生じない上に、原料溶液の連続供給のできる新規な構造のCVD用原料ガス発生装置の提供を目的とする。【構成】 本発明は、内部に原料溶液とキャリアガスが供給される容器状の供給器と、この供給器に毛細管を介し接続されて減圧雰囲気の反応チャンバに接続される気化器とを具備し、前記毛細管の供給器内の先端部の開口面を供給器内の原料溶液の液面近傍上方に配置してなるものである。【効果】 本発明によれば、反応チャンバを減圧雰囲気とすると、毛細管から気化器に向かう急激なキャリアガスの流れを自然に形成することができるので、この急激なキャリアガスの流れに沿って原料溶液を毛細管の開口面で細粒の液滴状にして同時にキャリアガスとともに一定量気化器に供給することができる。
請求項（抜粋）：
内部に原料溶液とキャリアガスが供給される容器状の供給器と、この供給器に毛細管を介し接続されて減圧雰囲気の反応チャンバに接続される気化器とを具備し、前記毛細管の供給器内の先端部の開口面を供給器内の原料溶液の液面近傍上方に配置してなることを特徴とするCVD用原料ガスの発生装置。
IPC (10件)：
C30B 25/14 ZAA
, B01J 7/00
, C01G 1/00
, C01G 3/00 ZAA
, C23C 16/40 ZAA
, C23C 16/44 ZAA
, C30B 29/22 501
, H01B 12/06 ZAA
, H01B 13/00 565
, H01L 39/24 ZAA
