特許
J-GLOBAL ID：200903011417434175
スパッタ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-344178
公開番号（公開出願番号）：特開平5-171432
出願日： 1991年12月26日
公開日（公表日）： 1993年07月09日
要約：
【要約】【目的】 スパッタ装置の構造に関し、同一真空容器内で異種材料からなる複数の薄膜を連続して形成することを目的とする。【構成】 真空容器11内に回転可能に支持された角柱状のターゲット保持体13を有する。このターゲット保持体13の外周に沿って複数個のターゲット板14を固着し、その内の一個を真空容器11内に配設された基板1に対向させてこの基板1にそのターゲット板14の材料を被着させる。
請求項（抜粋）：
真空容器(11)内に回転可能に支持され、且つ外周に沿って複数個のターゲット板(14)が固着されたターゲット保持体(13)を備え、該ターゲット保持体(13)を必要に応じて回転することにより所望のターゲット板(14)一個を該真空容器(11)内に配設された基板(1) に対向させて該基板(1) に該ターゲット板(14)の材料を被着するように構成されていることを特徴とするスパッタ装置。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, C23C 14/56
, H01L 21/203
