特許
J-GLOBAL ID：200903011418768620
サーマルヘツドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野寺 洋二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-015895
公開番号（公開出願番号）：特開平5-124239
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：
【要約】【目的】 発熱抵抗体の微細加工を要することなく発熱分布を制御し、電気的および物理的強度を確保する。【構成】絶縁基板1上に形成した発熱抵抗体5の所要部分52,あるいは52’に抵抗値を下げることのできるパワーのレーザー光を照射することによって、発熱抵抗体5の抵抗値を部分的に制御して所望の発熱分布を得る。【効果】形成した発熱抵抗体の形状を変える必要がなく、したがって特に微細加工を施すことなく、また複雑なプロセスを用いることなく、発熱分布を制御できる。
請求項（抜粋）：
絶縁基板上に発熱抵抗体を形成してなるサーマルヘッドの製造方法において、前記発熱抵抗体を形成した後に、照射により抵抗値を減少させるパワーのレーザー光を前記発熱抵抗体の所要部分に照射することによって、前記所要部分に抵抗値の低い領域を形成することを特徴とするサーマルヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B41J 3/20 111 H
, B41J 3/20 113 A
