特許

J-GLOBAL ID：200903011435375364

露光装置

発明者： 谷津 修
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-157812
公開番号（公開出願番号）：特開平9-006009
出願日： 1995年06月23日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：

【要約】【目的】マスクに対して長期にわたって露光光の照射を行なっても、照明光学系中の光学部材の劣化を防ぐことができ、長期にわたって安定した露光を実現し得る露光装置を提供する。【構成】所定の波長の光を供給する光源手段と、その光源手段からの光を所定の回路パターンが形成されたマスク上へ導く照明光学系とを備え、被照明物体上のパターンを感光性基板上に露光する露光装置において、その照明光学系は、光源手段からの光を透過させる複数の透過性光学部材を含み、その複数の透過性光学部材の少なくとも1つは、蛍石で構成されるようにした。

請求項（抜粋）：

所定の波長の光を供給する光源手段と、該光源手段からの光を所定の回路パターンが形成されたマスク上へ導く照明光学系とを備え、前記被照明物体上のパターンを感光性基板上に露光する露光装置において、前記照明光学系は、前記光源手段からの光を透過させる複数の透過性光学部材を含み、前記複数の透過性光学部材の少なくとも1つは、蛍石で構成されることを特徴とする露光装置。

IPC (5件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521 ,  G03B 27/16 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521 ,  G03B 27/16 E ,  H01L 21/30 515 D

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-196512