特許
J-GLOBAL ID：200903011438841889
カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を含有する化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-129823
公開番号（公開出願番号）：特開平8-301977
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年11月19日
要約：
【要約】【目的】従来の触媒を使用した場合に比べ反応速度が遅くなることがなく、得られる化合物がエポキシ樹脂と配合した場合において、貯蔵安定性及びアルカリ現像性に優れ、現像管理幅も大きく、しかも得られる硬化膜が密着性、ハンダ耐熱性、耐溶剤性、耐アルカリ性及び耐酸性に優れる、特にフォトソルダーレジストとして有用なカルボキシル基及びエチレン性不飽和基を含有する化合物の製造方法の提供。【構成】水酸基を3個以上含有する3級アミン或いはその塩、又は水酸基を3個以上含有する4級アンモニウム塩からなる触媒の存在下、エポキシ化合物に不飽和モノカルボン酸を付加反応させて水酸基とエチレン性不飽和基を持つ化合物を製造した後、得られた化合物に多塩基酸無水物を付加反応させる。
請求項（抜粋）：
水酸基を3個以上含有する3級アミン或いはその塩又は水酸基を3個以上含有する4級アンモニウム塩の1種又は2種以上からなる触媒の存在下、1分子中にエポキシ基を2個以上含有する化合物に不飽和モノカルボン酸を付加反応させて水酸基及びエチレン性不飽和基を含有する化合物を製造した後、得られた水酸基及びエチレン性不飽和基を含有する化合物に多塩基酸無水物を付加反応させることを特徴とするカルボキシル基及びエチレン性不飽和基を含有する化合物の製造方法。
IPC (4件)：
C08G 59/16 NHG
, C08F299/02 MRV
, G03F 7/027 502
, G03F 7/032 501
C08G 59/16 NHG
, C08F299/02 MRV
, G03F 7/027 502
, G03F 7/032 501
