特許
J-GLOBAL ID:200903011457068899

ガスバリア性積層フィルムおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-036738
公開番号(公開出願番号):特開2005-125731
出願日: 2004年02月13日
公開日(公表日): 2005年05月19日
要約:
【課題】 屈曲しても優れたガスバリア性を維持できるガスバリア性積層フィルムおよび前記ガスバリア性積層フィルムを用いた、耐久性に優れた画像表示素子の提供。【解決手段】 基材フィルム上に、少なくとも1層の無機層と少なくとも1層の有機層とが形成されているガスバリア性積層フィルムにおいて、前記有機層を少なくとも1種類のオキセタニル基を含有するモノマーを開環重合させて形成する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
基材フィルム上に、少なくとも1層の無機層と少なくとも1層の有機層とを有するガスバリア性積層フィルムであって、前記有機層が少なくとも1種類のオキセタニル基を含有するモノマーを開環重合させて形成された層であることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。
IPC (2件):
B32B9/00 ,  B32B27/00
FI (2件):
B32B9/00 A ,  B32B27/00 A
Fターム (14件):
4F100AA01B ,  4F100AA20 ,  4F100AK01C ,  4F100AK55 ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EH662 ,  4F100EJ523 ,  4F100GB41 ,  4F100JD02B ,  4F100JD02C
引用特許:
出願人引用 (2件)

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