特許
J-GLOBAL ID：200903011462085831
感光性化合物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-055880
公開番号（公開出願番号）：特開平5-216220
出願日： 1991年02月27日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】本発明の感光性化合物は、メチレン基を介してヒドロキシベンゼン系核が結合してなるオリゴマーに例えばナフトキノンジアジド系の感光基が結合してなるものである。【効果】従来の低分子量バラスト材料よりも多官能化でき、従来の高分子量バラスト材料を用いた場合より形状改善効果を大きくでき、更に解像力の大きな加工を達成できるKrFエキシマレーザー光等による露光光についても有効に適用可能なものである。
請求項（抜粋）：
メチレン基を介してヒドロキシベンゼン系核が結合してなるオリゴマーに感光基が結合してなる感光性化合物。
IPC (2件)：
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