液晶表示素子の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (11件)：岡部正夫 , 加藤伸晃 , 産形和央 , 臼井伸一 , 藤野育男 , 越智隆夫 , 本宮照久 , 高梨憲通 , 朝日伸光 , 高橋誠一郎 , 吉澤弘司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-144292
公開番号（公開出願番号）：特開2004-046144
出願日： 2003年05月22日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】フォトリソグラフィ工程を使用せずに、レジストパターンを形成し得るパターン形成装備を提供し、且つ、パターニング工程を単純化し得る液晶表示素子の製造方法を提供する。【解決手段】印刷ロール510にレジストパターン504を形成する段階と、前記印刷ロール510を使用して基板520上に形成されたエッチング対象層上に多段(multi-stepped)のレジストパターン550を印刷する段階と、該印刷されたレジストパターン550をマスクにしてエッチング対象層をエッチングする段階と、を行ってパターンを形成する。【選択図】図1A

請求項（抜粋）：

印刷ロールにレジストパターンを形成する段階と、前記印刷ロールを使用して基板上に形成されたエッチング対象層上に多段のレジストパターンを印刷する段階と、前記印刷されたレジストパターンをマスクにしてエッチング対象層をエッチングする段階と、を行うことを特徴とする液晶表示素子のパターン形成方法。

IPC (6件)：

G02F1/13 , G02F1/1368 , H01L21/28 , H01L21/3213 , H01L21/336 , H01L29/786

FI (6件)：

G02F1/13 101 , G02F1/1368 , H01L21/28 E , H01L21/88 C , H01L29/78 612D , H01L29/78 612C

Fターム (77件)：

2H088EA22 , 2H088FA16 , 2H088FA18 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 2H092GA24 , 2H092JA24 , 2H092MA12 , 2H092NA27 , 2H092PA01 , 2H092RA10 , 4M104AA09 , 4M104BB01 , 4M104BB02 , 4M104BB04 , 4M104BB13 , 4M104BB16 , 4M104BB36 , 4M104BB40 , 4M104CC01 , 4M104DD07 , 4M104DD20 , 4M104DD71 , 4M104FF13 , 4M104GG09 , 5F033HH08 , 5F033HH11 , 5F033HH17 , 5F033HH20 , 5F033HH22 , 5F033HH38 , 5F033JJ38 , 5F033KK17 , 5F033KK20 , 5F033KK22 , 5F033PP06 , 5F033PP15 , 5F033QQ08 , 5F033RR04 , 5F033RR06 , 5F033RR21 , 5F033SS21 , 5F033VV06 , 5F033VV15 , 5F033WW00 , 5F033XX33 , 5F110AA16 , 5F110BB02 , 5F110CC07 , 5F110DD02 , 5F110DD21 , 5F110EE02 , 5F110EE03 , 5F110EE43 , 5F110EE44 , 5F110FF02 , 5F110FF03 , 5F110GG02 , 5F110GG15 , 5F110GG42 , 5F110HK04 , 5F110HK06 , 5F110HK09 , 5F110HK21 , 5F110HK32 , 5F110HK33 , 5F110HK34 , 5F110HL07 , 5F110HL22 , 5F110NN02 , 5F110NN23 , 5F110NN24 , 5F110NN27 , 5F110NN36 , 5F110QQ01 , 5F110QQ06

引用特許：

審査官引用 (8件)

液晶用マトリクス基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-290731 出願人：シャープ株式会社
オフセット印刷法による薄膜トランジスタ回路の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-028545 出願人：株式会社ジーティシー
特開昭63-033730

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