特許

J-GLOBAL ID：200903011464810657

排ガス浄化装置

発明者： 堀田 善次 ,  須田 泰一朗 ,  米田 吉輝 ,  西川 鉄太 ,  森井 政治 ,  石川 富久 ,  石岡 正明 ,  向井 正人
出願人/特許権者： 関西電力株式会社 ,  バブコック日立株式会社
代理人 (1件)： 鵜沼 辰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-232874
公開番号（公開出願番号）：特開平9-075674
出願日： 1995年09月11日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：

【要約】【課題】 少ない触媒量で未反応NH3の排出を抑えながら、NOx値を大気レベル以下まで低減させる超高効率脱硝を実現する事ができる排ガス浄化装置提供すること。【解決手段】 使用条件により排ガス温度が変わる排ガスに含まれる熱を回収する廃熱回収ボイラに設けられ、排ガス中に含まれるNOxを低減する脱硝触媒層と、NH3を酸化分解するNH3分解触媒層とを備えた排ガス浄化装置であって、前記触媒層は、廃熱回収ボイラの高温度部側に設けられる前記脱硝触媒層とそれの後に続いて設置されるNH3分解触媒層との対と、廃熱回収ボイラの低温度部側に設けられる他の脱硝触媒層との2つ以上に分割配置されて成る。副生NOxの生成を抑えてNOx値を大気レベルまでに低減させることができ、且つ未反応NH3の排出を低い濃度(0.04ppm以下)に抑えることができる。

請求項（抜粋）：

使用条件により排ガス温度が変わる排ガスに含まれる熱を回収する廃熱回収ボイラに設けられ、排ガス中に含まれるNOxを低減する脱硝触媒層と、NH3を酸化分解するNH3分解触媒層とを備えた排ガス浄化装置であって、前記触媒層は、廃熱回収ボイラの高温度部側に設けられる前記脱硝触媒層とそれの後に続いて設置されるNH3分解触媒層との対と、廃熱回収ボイラの低温度部側に設けられる他の脱硝触媒層との2つ以上に分割配置されて成ることを特徴とする排ガス浄化装置。

IPC (4件)：

B01D 53/94 ,  B01D 53/86 ZAB ,  F23J 15/00 ,  F23J 15/00 ZAB

FI (4件)：

B01D 53/36 101 A ,  B01D 53/36 ZAB E ,  F23J 15/00 H ,  F23J 15/00 ZAB A