特許

J-GLOBAL ID：200903011472710084

多孔質錯体とその製造法および吸着剤

発明者： 足立 貴義 ,  市田 泰三 ,  内野 誠
出願人/特許権者： 大陽東洋酸素株式会社
代理人 (1件)： 大石 征郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-138328
公開番号（公開出願番号）：特開2000-327628
出願日： 1999年05月19日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】 銅イオンとトリメシン酸類とから合成される新規な錯体を提供すること、およびその錯体を工業的に有利に製造する方法を提供すること、さらにはその錯体の用途の一例である吸着剤を提供することを目的とする。【解決手段】 銅イオンとトリメシン酸類とから合成される錯体であって、[Cu3(C9H3O6)2]n を基本単位とする構造式を有し、かつ粉末X線回折におけるメインの面間隔dが実質的に7.60Åである多孔質錯体である。この多孔質錯体は、典型的には、銅塩とトリメシン酸類とを両者を溶解する有機溶媒中で反応させることにより得られる。

請求項（抜粋）：

(イ)銅イオンとトリメシン酸類とから合成される錯体であって、(ロ)[Cu3(C9H3O6)2]n を基本単位とする構造式を有し、(ハ)かつ粉末X線回折におけるメインの面間隔dが実質的に7.60Åであること、を特徴とする多孔質錯体。

IPC (4件)：

C07C 63/307 ,  B01J 20/22 ,  B01J 20/30 ,  C07F 1/08

FI (4件)：

C07C 63/307 ,  B01J 20/22 A ,  B01J 20/30 ,  C07F 1/08 B

Fターム (26件)：

4G066AA53A ,  4G066AB06D ,  4G066AB07A ,  4G066AB24B ,  4G066BA23 ,  4G066BA26 ,  4G066BA31 ,  4G066CA27 ,  4G066CA37 ,  4G066FA05 ,  4H006AA01 ,  4H006AB90 ,  4H006AC47 ,  4H006AC90 ,  4H006BB14 ,  4H006BE62 ,  4H006BE90 ,  4H048AA01 ,  4H048AA02 ,  4H048AA03 ,  4H048AB80 ,  4H048AC90 ,  4H048BB14 ,  4H048VA20 ,  4H048VA56 ,  4H048VB10