走査露光方法及び該方法を用いるデバイス製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-168954
公開番号（公開出願番号）：特開2000-003873
出願日： 1993年02月01日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：

【要約】【課題】スリットスキャン露光方式で露光を行うときに被露光体に対する露光量を適正化する。【解決手段】被露光体としてのウエハWの走査露光を開始する前に、ウエハWの移動方向に関する露光ビームの強度分布を求め、その強度分布に基づいて露光量制御パラメータのそれぞれを最適に設定する。

請求項（抜粋）：

パルス発振型の露光ビームに対して被露光体を移動することにより、前記被露光体を走査露光する走査露光方法において、走査露光を開始する前に、前記被露光体の移動方向に関する前記露光ビームの強度分布を得ることを特徴とする走査露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 C

引用特許：

審査官引用 (9件)

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