特許
J-GLOBAL ID:200903011473887697
分離モジュール及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
斎藤 侑 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-583922
公開番号(公開出願番号):特表2003-533344
出願日: 2001年05月19日
公開日(公表日): 2003年11月11日
要約:
【要約】本発明の課題は、金属ハウジング、ガラスハウジングもしくはプラスチックハウジングの欠点をもたず、かつ同時にできるだけ損傷のない分離膜の形成を可能にする分離モジュールを提供することである。ハウジングと該ハウジングによって保持された分離エレメントを有する分離モジュールによる上記課題は、本発明によれば、(a)該分離モジュールが緻密なセラミックスからなるハウジングと多孔質のセラミックスからなる分離エレメント-支持体で組み立てられており、(b)該分離エレメント-支持体が供給側もしくは透過物質側で分離膜で被覆されており、かつ(c)該分離膜が、全てセラミックの分離モジュールの組立後に該分離エレメント-支持体に塗布されていることによって解決される。本発明による製品は、とりわけ、しかし限定的にではなく、きわめて広い意味での化学プロセス工学に使用することができる。
請求項(抜粋):
ハウジングと該ハウジングによって保持された分離エレメントからなる分離モジュールにおいて、 a)該分離モジュールが緻密なセラミックスからなるハウジングと多孔質のセラミックスからなる分離エレメント-支持体で組み立てられており、 b)該分離エレメント-支持体が供給側もしくは透過物質側で分離膜で被覆されており、かつ c)該分離膜が、全てセラミックの分離モジュールの組立後に該分離エレメント-支持体に塗布されていることを特徴とする、分離モジュール。
IPC (7件):
B01D 69/10
, B01D 63/06
, B01D 67/00 500
, B01D 71/02
, C04B 41/85
, C23C 18/16
, C23C 30/00
FI (7件):
B01D 69/10
, B01D 63/06
, B01D 67/00 500
, B01D 71/02
, C04B 41/85 C
, C23C 18/16 Z
, C23C 30/00 D
Fターム (24件):
4D006GA02
, 4D006GA41
, 4D006HA26
, 4D006JA02C
, 4D006JA25C
, 4D006JB09
, 4D006MA02
, 4D006MA06
, 4D006MA21
, 4D006MC03
, 4D006MC05
, 4D006NA31
, 4D006NA43
, 4D006NA46
, 4D006NA62
, 4K022AA04
, 4K022AA33
, 4K022DA01
, 4K044AA13
, 4K044AB03
, 4K044BA01
, 4K044BB01
, 4K044CA14
, 4K044CA15
引用特許:
審査官引用 (1件)
-
水素ガス分離装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-259603
出願人:日本碍子株式会社
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